Odpowiedź 150 mm jest poprawna, ponieważ zgodnie z normą PN-ISO 11799, minimalna odległość między najniżej położoną półką a podłogą oraz między sufitem a obiektami na najwyższej półce powinna wynosić 150 mm. Ta norma określa wymagania dotyczące przechowywania dokumentów oraz zorganizowanych zasobów archiwalnych, co ma kluczowe znaczenie dla ochrony tych materiałów przed uszkodzeniami i zapewnienia ich łatwego dostępu. Przykładem praktycznego zastosowania tej zasady może być zorganizowanie archiwum w sposób, który umożliwia swobodne czyszczenie podłóg oraz uniknięcie przypadkowego uszkodzenia dokumentów. W przypadku gromadzenia obiektów na najwyższych półkach, odpowiednia przestrzeń między nimi a sufitem jest istotna, aby zapobiec zgnieceniu lub zniszczeniu materiałów w wyniku osiadania pyłu czy wilgoci. Dlatego przestrzeganie tych wymagań jest kluczowe dla zachowania integralności archiwalnych zasobów oraz ich długotrwałej ochrony.
Wybór innej odpowiedzi niż 150 mm może wynikać z nieporozumienia co do wymagań określonych w normie PN-ISO 11799. Ustalona minimalna odległość nie jest kwestią dowolną, lecz opiera się na zasadach zapewnienia bezpieczeństwa oraz zachowania jakości przechowywanych materiałów. Odpowiedzi takie jak 100 mm, 80 mm czy 130 mm nie spełniają standardów, co może prowadzić do nieodpowiednich warunków przechowywania. Zbyt mała odległość między półkami a podłogą może ograniczyć dostęp do dokumentów oraz sprawić, że będą one bardziej narażone na uszkodzenia mechaniczne, na przykład podczas czyszczenia pomieszczenia. Podobnie, niewystarczająca przestrzeń między najwyższymi półkami a sufitem może prowadzić do gromadzenia się zanieczyszczeń, co z kolei może negatywnie wpłynąć na jakość archiwizowanych materiałów. Ponadto, nieprzestrzeganie tych zasad może skutkować problemami związanymi z kontrolą klimatu w pomieszczeniu, co jest kluczowe dla zachowania dokumentów w dobrym stanie przez długi czas. Dlatego zrozumienie i stosowanie się do norm, takich jak PN-ISO 11799, jest niezbędne w praktyce archiwalnej.